资料等级		下载所需E币	4E	资料语言	简体中文
格式	RAR	资料大小	595K	资料内容类别	应用实施
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本资料为IC制造工艺，介绍了IC的各种制造工艺，内容全面，图文并茂，可供感兴趣的专业人士下载学习和研究使用。 主要内容： 刻蚀 刻蚀的品质 湿法刻蚀 化学机械抛光 等离子体刻蚀和高压等离子体刻蚀 刻蚀SiO2的剖面 平板式等离子体刻蚀系统 离子铣 离子铣过程可能发生的问题 反应离子刻蚀 高密度等离子体刻蚀 剥离技术